フィルム型太陽電池の製造においては、わずかな温度変動でも許されない。たとえ1度程度の温度偏差があっても、フォトレジストの残留物が残ったり、表面に汚れが付着したりして、歩留まりが悪くなる。そのため、一貫して正確な温度が維持されることが重要であり、サイクルを重ねても同じ状態を保つ必要がある。
赤外線を利用した高精度な温度制御
当社では、迅速かつ局所的な加熱が可能なNIR光源を用いてこの乾燥ランプを設計しました。その結果、基板上でマイクロメートル単位の均一な温度分布が実現し、ウェーハ全体の温度は±0.1℃以内に抑えられます。 制御回路により再現性が保証されているため、どのような加熱処理を行っても、ホットスポットやコールドエッジが発生しません。また、クリーンルームクラス1～100に適合しており、粒子の発生もないため、長時間の運転でも粒子数が安定しています。
なぜフィルム型太陽電池の製造に適しているのか
フィルム型太陽電池の製造には、厳格な温度管理と清潔な界面が求められます。このランプは、リソグラフィー工程において一貫したフォトレジスト処理を実現するための再現性を提供します。過剰な加熱や不足した加熱による問題も防げます。 迅速で直接的な加熱により、加熱時間が短縮され、エネルギー消費も少なくなります。また、プロセスの安定性も保たれます。このランプは5,000時間以上使用しても出力低下が5％未満であり、ランプの交換回数を減らし、計画外の停止時間も削減できます。
設置と操作に関する注意点
この乾燥ランプは既存のレールに簡単に取り付けられますが、均一性を保つためには光学系の正確な調整が必要です。基板上の距離やビームプロファイルを設定するために、短時間の調整作業が必要です。 低湿度の環境での運用により、長期的な安定性が保たれます。もし、吸収率が大きく異なる基板を扱う場合は、温度管理を維持するために条件を再設定する必要があります。