LPCVD炉の加熱素子

製造現場では、うまくいっている工程が一瞬にして失敗に終わってしまうこともあります。LPCVD炉の温度制御において、わずか0.3℃のずれだけで、目標とする薄膜の厚さが基準値から外れてしまいます。加熱要素の性能が低下すると、温度の均一性が失われ、ドーピングや成膜の過程にも影響が出てきます。その結果、リ...