適切な距離の設定：ウエハー用の赤外線加熱 もし、製造プロセスにおける炭素排出量を減らしたいと思っているなら、古い抵抗発熱体を短波長赤外線装置に置き換えることを検討してみてはどうでしょう。これは賢明な選択です。しかし、重要なのは、ランプとウエハーの間の距離をできるだけ狭くすることです。 単にウエハー...

キャビネットを加熱するのをやめて、ウェーハ自体を加熱しましょう。 もし従来の抵抗式ヒーターを使ったことがあるなら、その面倒さはご存知でしょう。熱があちこちに散乱してしまい、めちゃくちゃになってしまいます。エネルギーは本来あるべき場所に行かず、キャビネットの内壁に吸収されてしまいます。その結果、壁が...

MEMSウェーハを乾燥させる際の安全対策 正直に言って、高強度の赤外線ランプを可燃性の溶剤のすぐそばに置くのは、災害を招く行為です。化学的な洗浄後にMEMSセンサーワェーハを乾燥させるには熱が必要ですが、クリーンルーム内で火災が起きるわけにはいきません。 だからこそ、単にランプを作るだけではなく、...

ウェーハの硬化処理におけるランプの故障対応 高負荷な生産ラインを運用していると、赤外線ランプには極限まで負担がかかります。これは非常に過酷な環境です。そして、ランプが壊れてしまったり、最悪の場合は爆発してしまったりすると、ダウンタイムだけが問題ではありません。 本当の問題は、汚染です。ガラスの破片...

なぜ金コーティングされた反射器がウェハーにとって重要なのか 半導体加工の世界では、熱の損失は大きな問題です。それによって処理効率が低下してしまいます。シリコンウェハーの温度を正確に制御しようとするとき、赤外線エネルギーが装置の筐体内に漏れ出すことは避けたいものです。それは無駄なエネルギーの消費に他...

はじめに 想像してみてください。空気中に可燃性の洗浄剤が満ちたウェーハ処理ラインの光景です。こうした環境では、一般的な加熱素子はすぐに機能を失ってしまいます。 私たちが開発した赤外線加熱ランプは、まさにこのような過酷な環境に対応するために作られました。加熱源を特殊なカプセル化システムで覆うことで、...

半導体製造におけるコストの壁を打破する 現場で皆が気にしている疑問ですが、国産の赤外線ヒーターは本当に、ウェーハ処理装置に使用されている高価な輸入品に代わり得るのでしょうか？ 短答すれば、技術的に可能です。私たちが開発したヒーターは、元のものと同じように簡単に取り付けられ、装置や仕様に影響を与えま...

300mmウエハーの場合、ウエハー全体で0.3℃の温度変動があれば、クリティカルサイズに影響が出ます。一度でも計画外の停止が起きれば、1ヶ月分の熱管理コストが一瞬で無駄になってしまいます。ウエハーのIR対応用コーティングは、単なるオプションではありません。これは、何回繰り返してもリソグラフィーやフ...

リソグラフィーラインにおいては、フォトレジストの加熱処理を単なる「加熱」として扱うことはありません。これは、単純に寸法制御の問題です。ソフトバーンやハードバーン時の温度変化が1℃でもあれば、重要な寸法が変わってしまいます。また、均一でない温度分布は、エッジビードの発生や歩留まりの低下を招く原因とな...

リソグラフィ工程において、ウェーハの乾燥やフォトレジストのソフトベイクの際に0.3℃もの温度変動があると、重要な寸法がナノメートル単位で変わってしまいます。このような変動は、最終的に歩留まりの低下につながります。私たちは、このような変動を防ぐために、ウェーハ乾燥用の赤外線ヒーターを開発しました。こ...