왜 반도체 IR 경화 공정에서 오존을 사용하지 않는가?
반도체 제조 공장에서 일할 때 가장 우려되는 것은 오염입니다. 조금이라도 실수가 생기거나, 청정실에 유해 물질이 들어오면 웨이퍼들이 망가지게 됩니다. 그래서 우리는 오존이 없는 적외선 램프를 사용하게 되었습니다. 이 방법은 기존의 용매나 UV 장비를 사용하지 않고도 부품을 경화시킬 수 있는 깨끗한 방법입니다.
일반적인 적외선 램프의 문제점
대부분의 단파 적외선 램프는 185nm에서 254nm 사이의 파장의 광선을 방출합니다. 이 에너지는 산소 분자를 분해시켜 결과적으로 오존(O3)이 생성됩니다. 공장 내에서 오존은 큰 문제입니다. 오존은 공구를 손상시키고, 그곳에서 일하는 사람들에게도 위험을 초래합니다. 우리는 특수한 석영 필터와 필라멘트를 사용하여 이러한 단파장의 광선을 차단함으로써 이 문제를 해결했습니다. 그렇게 하면 여전히 부품을 경화시키는 데 필요한 열은 얻을 수 있지만, 유해한 가스는 발생하지 않습니다.
공기가 아닌 부품을 직접 가열하기
무연 납땜재나 친환경 접착제를 사용한다면, 그러한 물질들은 활성화되기 위해 더 많은 열이 필요하다는 것을 알고 있을 것입니다. 우리의 램프는 고강도의 열을 직접 부품에 전달함으로써 이 문제를 해결합니다. 거대한 오븐 안의 공기를 가열하는 데 에너지를 낭비하는 대신, 에너지를 정확히 필요한 곳에 집중시킬 수 있습니다. 이 방식은 더 빠르고 효율적입니다. 게다가 전력 비용도 줄어듭니다.
단점과 그 해결 방법
물론, 이 방식에도 단점이 있습니다. 작은 공간에 많은 에너지를 집중시키면 전원 공급 장치에 부담이 가게 됩니다. 따라서 램프 주변의 공기 흐름을 잘 관리해야 합니다. 만약 공기 흐름이 약하다면 석영이나 필라멘트가 너무 빨리 손상될 수 있습니다. 이는 간단히 해결할 수 있는 문제이지만 매우 중요합니다.
가장 좋은 점은, 이러한 시스템들이 기존 설비와 호환된다는 것입니다. 램프만 교체하고 기존의 컨트롤러에 연결하면 됩니다. 그러면 불필요한 오존 제거 시스템도 필요 없어집니다. 이렇게 하면 공간도 절약되고, 관리도 더욱 용이해집니다. 그렇게 간단합니다.