半导体加热器供应商

在光刻工序中，光刻胶烘烤过程中哪怕只有半度的温度波动，都可能严重影响成品率。晶圆对温度控制有着严格的要求，因此加热器必须能够持续提供稳定的热量，同时避免产生任何颗粒物。 从技术层面来看，关键在于： 我们设计的半导体设备加热器，其温度均匀性可达到±0.1℃，这一数值是以晶圆表面为测量基准的，而非加热...