DNS(스크린) 웨이퍼 건조기용 램프
리소그래피 라인에서는 포토레지스트를 가열하는 과정을 단순한 ‘가열’로 여기지 않습니다. 이는 사실상 치수 제어에 해당합니다. 소프트 베이크나 하드 베이크 과정에서 1°C만큼의 온도 변동이 생기면, 제품의 중요한 치수들이 변하게 됩니다. 또한, 균일하지 않은 온도 분포...
웨이퍼 건조용 적외선 히터
리소그래피 공정에서 웨이퍼를 건조시키거나 포토레지스트를 소프트 베이크하는 동안 0.3°C만큼의 온도 변동이 생기면, 그로 인해 웨이퍼의 치수가 나노미터 단위로 변할 수 있습니다. 이러한 온도 변동은 결국 생산 효율 저하로 이어집니다. 우리는 이러한 변동성을 없애기 위...