در خطوط ۳۰۰ میلیمتری، حرکت ۰٫۳ درجه سانتیگرادی در دما، باعث تغییر ابعاد کلیدی ویفر میشود. یک توقف غیرمنتظره میتواند کل بودجه حرارتی ماه را در عرض لحظات از بین ببرد. استفاده از پوشش مناسب برای جلوگیری از تأثیرات حرارتی بر ویفر، چیزی نیست که فقط برای زیبایی مورد نیاز باشد؛ بلکه این پوشش، نقش مهمی در حفظ استانداردهای لیتوگرافی و فرآیندهای مربوط به فوتورزیست دارد.
چگونه آن را طراحی کردیم:
ما این پوشش را به گونهای تنظیم کردهایم که در برابر تأثیرات مادون قرمز و تغییرات دما مقاومت کند؛ به طوری که تفاوت دما در سراسر ویفر در حد ±۰٫۱ درجه سانتیگراد باقی بماند. این لایه، سازگار با محیطهای استерیل از کلاس ۱ تا کلاس ۱۰۰ است؛ همچنین تولید ذرات در آن به حدی کم است که باعث کاهش بازدهی فرآیند نمیشود. این لایه در برابر چرخههای حرارتی مکرر نیز مقاومت میکند؛ بنابراین قابلیت تکرارپذیری آن در هزاران دور تولید حفظ میشود. این سیستم برای کار ۷×۲۴ ساعته طراحی شده است؛ بنابراین در استفاده مداوم، هیچ خرابی غیرمنتظرهای رخ نمیدهد. عمر این سیستم نیز بسیار بیشتر از قطعات حرارتی معمولی است.
مزایای استفاده از این پوشش در فرآیند فوتورزیست:
دمای یکنواخت، منجر به عرض خطوط یکنواخت، کاهش تعداد تولیدات مجدد، و کاهش نقصها میشود. همچنین میزان مصرف انرژی کاهش مییابد؛ زیرا سیستم به سرعت به دمای مورد نظر میرسد و آن را حفظ میکند. کمتر شدن نیاز به تعمیرات، منجر به کاهش هزینههای نگهداری در محیطهای استریل میشود؛ همچنین زمان کار سیستم نیز افزایش مییابد.
نکات عملی:
نصب این پوشش باید متناسب با الگوی تابش مادون قرمز و پروفیل امیسیویته منبع مربوطه باشد؛ در غیر این صورت، یکنواختی دما مختل خواهد شد. این پوشش در محیطهای بیهوازی و هوای استریل نیز کار میکند؛ اما قرار گرفتن در معرض برخی حلالها میتواند عمر آن را کاهش دهد. لطفاً روشهای نصب و تمیزکاری را از قبل برنامهریزی کنید؛ تا بتوانید از قابلیت تکرارپذیری حرارتی این پوشش بهره ببرید.