Wafer IR için konformal kaplama
300 mm’lik bir hat üzerinde, wafer üzerindeki 0,3°C’lük bir sıcaklık değişimi bile kritik boyutları etkileyebilir. Bir kez meydana gelen planlanmamış...
DNS (Ekran) wafer kurutma lambası
Litografide, fotoresistin ısıtılmasını “sadece ısıtma” olarak görmeyiz. Bu işlem aslında boyutsal kontrolle ilgilidir. Yumuşak veya sert ısıtma...