Đèn sấy wafer DNS (Screen)

Wed, 24 Jun 2026 00:42:53 +0800

Trong quy trình in ấn bằng kỹ thuật lithography, chúng ta không coi việc sấy khô lớp photoresist chỉ là một thao tác đơn giản liên quan đến nhiệt độ. Đó thực chất là công việc kiểm soát kích thước của các chi tiết được in ra. Chỉ cần có sự thay đổi nhiệt độ 1°C trong quá trình sấy khô, kích thước của các chi tiết in ra cũng sẽ thay đổi. Nếu độ đồng đều của nhiệt độ không được đảm bảo, điều đó sẽ dẫn đến các vấn đề liên quan đến chất lượng sản phẩm và tỷ lệ sản phẩm bị hỏng. Đèn sấy wafer DNS được thiết kế với mục đích đáp ứng những yêu cầu này – kiểm soát nhiệt độ một cách chính xác để đảm bảo chất lượng quy trình sản xuất linh kiện bán dẫn.

Máy Sấy on The Warm IR Heater Shop

Đèn sấy wafer DNS (Screen)