Wafer IR için konformal kaplama

Sat, 27 Jun 2026 01:06:14 +0800

300 mm’lik bir hat üzerinde, wafer üzerindeki 0,3°C’lük bir sıcaklık değişimi bile kritik boyutları etkileyebilir. Bir kez meydana gelen planlanmamış durma, bir ay boyunca elde edilen termal verimliliği anında yok edebilir. Waferler için kullanılan konformal kaplama, sadece isteğe bağlı bir özellik değildir; litografi ve fotorezist işlemlerinin her seferinde standartlarda kalmasını sağlayan önemli bir unsurudur.

Ne üzerine kuruldu?
Kaplama malzemesi, kızılötesi tepkilere ve sıcaklık düzenliliğine göre ayarlanmıştır. Bu sayede yumuşak ve sert fırınlamalar sırasında wafer üzerindeki sıcaklık ±0,1°C aralığında kalır. Bu film, 1. sınıftan 100. sınıfa kadar olan tüm temiz oda koşullarına uygundur ve parçacık oluşumu o kadar azdır ki üretim verimliliği düşmez. Tekrarlanan termal döngülere dayanabilir; çatlamaz veya gaz salmaz. Bu sayede binlerce üretim sürecinde bile tekrarlanabilirlik korunur. Bu platform, 7×24 saat çalışacak şekilde tasarlanmıştır; yüksek hacimli kullanımlarda hiçbir planlanmamış arıza yaşanmaz ve ömrü normal termal bileşenlerden çok daha uzundur.

DNS (Ekran) wafer kurutma lambası

Wed, 24 Jun 2026 00:42:53 +0800

Litografide, fotoresistin ısıtılmasını “sadece ısıtma” olarak görmeyiz. Bu işlem aslında boyutsal kontrolle ilgilidir. Yumuşak veya sert ısıtma sırasında meydana gelen 1°C’lik bir değişiklik, ürünün kritik boyutlarını etkiler. Eşit olmayan ısı dağılımı ise kenar bölgelerinde sorunlara ve verim kaybına yol açar. DNS ekranlı wafer kurutucu lambası bu gerçekleri göz önünde bulundurarak tasarlanmıştır; yani termal kontrol, yarı iletken üretim süreçlerine uygun şekilde yapılandırılmıştır.

Teknik açıdan önemli olanlar Lamba, fotoresistin termal tepkisine göre ayarlanmış kısa dalga boylu kızılötesi ışık kullanır. Böylece hızlı bir ısınma ve istikrarlı bir sıcaklık kontrolü sağlanır. Wafer seviyesindeki eşitlik ±0,1°C civarında kalır; bu da her bölgenin aynı termal koşullara sahip olduğu anlamına gelir. Temiz oda uyumluluğu ise ek bir özellik değildir; cihaz, 1–100 sınıfı temiz odalar için tasarlanmıştır ve parça oluşumunu en aza indiren malzemeler ve kaplamalar kullanılmıştır. Tekrarlanabilirlik ise kapalı döngü kontrolü ve 5.000 saat üzerinde stabil lamba çıkışı sayesinde sağlanır; yoğunluk değişimi %5’in altındadır.

Wafers on The Warm IR Heater Shop

Wafer IR için konformal kaplama

DNS (Ekran) wafer kurutma lambası