Элемент нагрева печи LPCVD

Sun, 21 Jun 2026 01:58:15 +0800

На производственной площадке вы знаете, насколько быстро хороший процесс может превратиться в бесполезный хлам. Даже незначительное изменение температуры внутри печи LPCVD на 0,3°C может привести к тому, что требуемая толщина слоя не будет соответствовать заданным параметрам. Когда нагревательный элемент начинает работать неэффективно, нарушается тепловая однородность, что в свою очередь влияет на процесс допирования и осаждения веществ. Это сказывается на качестве литографического слоя. Время обработки фоторезиста сокращается, контроль точности размеров усиливается, а селективность эндотравления также меняется.

Что имеет значение внутри печи
Мы разработали нагревательный элемент для печи LPCVD с учетом одного принципа: возможности стабильного контроля температуры на всей длине трубки, при этом однородность температуры на поверхностиWafer должна составлять не более ±0,1°C. Конструкция с использованием галогенов и кварца позволяет использовать как коротковолновый, так и средневолновой излучатель, что способствует быстрому нагреву без перегрузки системы. Нагревательный элемент рассчитан на круглосуточную работу, не производит частиц, и его можно использовать в чистых помещениях классов от 1 до 100. Плотность мощности подбирается с учетом геометрии камеры, а интерфейс соответствует стандартам печи — разъемы, размеры и т. д. Это обеспечивает возможность без проблем замены элемента и сокращает время на техническое обслуживание.

LPCVD on The Warm IR Heater Shop

Элемент нагрева печи LPCVD