Lâmpada para secador de wafers DNS (Screen)

Wed, 24 Jun 2026 00:42:53 +0800

Na linha de litografia, não consideramos o processo de secagem do fotorevestimento como algo simples, apenas uma questão de aquecimento. Na verdade, trata-se de um controle dimensional preciso. Uma variação de 1°C no processo de secagem pode afetar as dimensões críticas dos componentes, e um perfil térmico irregular leva a problemas relacionados às bordas dos componentes e à perda de produtividade. A lâmpada utilizada para secar os wafers foi projetada levando em conta essa realidade – seu controle térmico é feito de forma a atender às exigências dos processos semicondutores.

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