Infraroodverwarmer voor het drogen van waferbladen

Thu, 18 Jun 2026 00:47:42 +0800

Op de lithografieafdeling kan een verschil van 0,3°C tijdens het drogen van de wafers of het verzachten van de fotoresist ertoe leiden dat de cruciale dimensies enkele nanometers veranderen. Dit soort variaties leidt tot een daling van de productieefficiëntie. We hebben infrarode verwarmers ontwikkeld om deze variaties te verminderen. Hierdoor wordt er een betrouwbare thermische controle mogelijk gemaakt, zelfs in situaties waarin het proces gevoelig is voor temperatuurschommelingen. De beschikbare tijd voor productie wordt niet beperkt door het herstarten van de oven.

Wafer on The Warm IR Heater Shop

Infraroodverwarmer voor het drogen van waferbladen