<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(Scherm) on The Warm IR Heater Shop</title>
		<link>http://warm-ir-heater-shop.com/nl/tags/scherm/</link>
		<description>Recent content in (Scherm) on The Warm IR Heater Shop</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 24 Jun 2026 00:42:53 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-shop.com/nl/tags/scherm/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>DNS (Screen) korreldrogerlamp</title>
				<link>http://warm-ir-heater-shop.com/nl/posts/dns-screen-wafer-dryer-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 00:42:53 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-shop.com/nl/posts/dns-screen-wafer-dryer-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-shop.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;DNS (Screen) korreldrogerlamp&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de lithografielijn wordt het proces van het verhitten van de fotoresist niet gezien als een simpel ‘verhitten’. Het gaat hier om nauwkeurige temperatuurregeling. Een verschil van 1°C tijdens het verhitten kan ertoe leiden dat de cruciale dimensies veranderen. Een oneffen temperatuurprofiel zorgt op zijn beurt voor problemen met de randen van de wafer en kan leiden tot verminderde productie. De lamp voor het drogen van waferbladen is &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;ontworpen&lt;/a&gt; met deze realiteit in gedachten: de thermische regeling is zo ingericht dat deze voldoet aan de vereisten van de halfgeleiderproductie.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
