DNS (Screen) korreldrogerlamp

Wed, 24 Jun 2026 00:42:53 +0800

Op de lithografielijn wordt het proces van het verhitten van de fotoresist niet gezien als een simpel ‘verhitten’. Het gaat hier om nauwkeurige temperatuurregeling. Een verschil van 1°C tijdens het verhitten kan ertoe leiden dat de cruciale dimensies veranderen. Een oneffen temperatuurprofiel zorgt op zijn beurt voor problemen met de randen van de wafer en kan leiden tot verminderde productie. De lamp voor het drogen van waferbladen is ontworpen met deze realiteit in gedachten: de thermische regeling is zo ingericht dat deze voldoet aan de vereisten van de halfgeleiderproductie.

Lamp voor het drogen van dunne filmsolarmodulen

Wed, 17 Jun 2026 11:08:52 +0800

Buiten de productielijn kan de dunne filmsolaire cel geen enkele thermische afwijking tolereren. Zelfs een verschil van één graad kan leiden tot restanten van fotorezyst, vervuiling en een lagere opbrengst. Er is dus behoefte aan hitte die precies op de gewenste plek terechtkomt en daar blijft, cyclus na cyclus.

Infraroodprecisie: controle over het thermische veld op submillimeterniveau
We hebben deze drooglamp ontworpen met behulp van NIR-lichtbronnen die worden gebruikt voor snel en gericht verwarmen. Hierdoor wordt er een uniform thermisch veld gecreëerd over het substraat, waarbij de temperatuur op het niveau van het wafer rond de ±0,1°C blijft. De herhaalbaarheid is ingebouwd in het besturingssysteem, zodat elke behandeling consequent is – geen hete plekken of koude randen. De lamp is compatibel met cleanroomomgevingen van klasse 1–100. Bovendien wordt er geen vuil geproduceerd, waardoor het aantal deeltjes constant blijft, zelfs bij langdurig gebruik.

Droger on The Warm IR Heater Shop

DNS (Screen) korreldrogerlamp

Lamp voor het drogen van dunne filmsolarmodulen