Op de lithografieafdeling kan een verschil van 0,3°C tijdens het drogen van de wafers of het verzachten van de fotoresist ertoe leiden dat de cruciale dimensies enkele nanometers veranderen. Dit soort variaties leidt tot een daling van de productieefficiëntie. We hebben infrarode verwarmers ontwikkeld om deze variaties te verminderen. Hierdoor wordt er een betrouwbare thermische controle mogelijk gemaakt, zelfs in situaties waarin het proces gevoelig is voor temperatuurschommelingen. De beschikbare tijd voor productie wordt niet beperkt door het herstarten van de oven.
Wat technisch gezien belangrijk is: We gebruiken infraroodemitters met een snelle reactietijd en nauwkeurige spectrale controle. Hierdoor wordt de energie efficiënt overgedragen op de wafers en de fotoresist – zonder overtollige energie. De temperatuurovereenstemming over de hele wafel blijft binnen ±0,1°C. De herhaalbaarheid van de resultaten is ook hoog. De apparatuur is geschikt voor gebruik in schone ruimtes: het materiaal heeft weinig uitstoot, de verbindingen zijn goed afgesloten en de oppervlakken zorgen ervoor dat er nauwelijks deeltjes worden geproduceerd. De verwarmermodulen passen gemakkelijk in standaardprocessoplatforms, met eenvoudige mechanische en elektrische aansluitingen. Ze kunnen duizenden uren lang stabiel functioneren – meer dan 5.000 uur, met minder dan 5% daling in de prestaties.
Waarom het in de praktijk werkt: Bij het drogen zorgt infrarode straling voor een uniforme en snelle droging. Hierdoor worden er geen watervlekken of microbruggen gevormd, voordat de lithografie begint. Bij het verwerken van de fotoresist zorgt hetzelfde systeem voor een nauwkeurige temperatuurregeling, waardoor de breedte van de lagen consistent blijft. De stappen van hard baking en curing vinden plaats bij constante temperaturen, zodat de hechting en integriteit van de lagen voldoen aan de vereisten, zonder dat er herwerkzaamheden nodig zijn.
De energieverbruik neemt af, omdat de verwarmers alleen actief zijn wanneer het proces bezig is. Bovendien wordt het energieverbruik verminderd door de lage thermische inertie. Minder herstarten van de oven betekent minder verspilde wafers en kortere productietijden.
Wat je moet weten: Voor de installatie is het belangrijk om de optische alignement correct uit te voeren. Anders kunnen er lokale warmtepunten op de wafel ontstaan. Sommige polymeren en antireflectiecoatings absorberen veel energie in het nabije infrarode gebied. Daarom moet eerst de temperatuur op het oppervlak van de wafel worden gemeten met een gekalibreerde sensoreenheid, om de nauwkeurigheid van de instellingen te controleren. Eenmaal de juiste instellingen zijn vastgesteld, zijn er alleen nog maar regelmatige kalibraties nodig – geen dagelijkse aanpassingen meer.