Lampu pengering wafer DNS (Screen)

Wed, 24 Jun 2026 00:42:53 +0800

Dalam proses litografi, kita tidak menganggap proses pemanasan photoresist sebagai sekadar tindakan pemanasan biasa. Sebaliknya, ia merupakan proses kawalan dimensi yang tepat. Perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pemanasan akan menyebabkan perubahan pada dimensi penting komponen tersebut. Selain itu, profil suhu yang tidak seragam akan menyebabkan masalah pada bahagian tepi komponen dan pengurangan kadar pengeluaran. Lampu pengering wafer DNS direka dengan mempertimbangkan faktor-faktor ini—kawalan suhu yang efektif untuk memenuhi keperluan proses semikonduktor.

Apa yang penting dari segi teknikal:
Lampu ini menggunakan gelombang inframerah pendek yang disesuaikan agar sesuai dengan reaksi photoresist terhadap suhu. Dengan cara ini, proses pemanasan berlaku dengan cepat dan kawalan suhu dapat dilakukan dengan lebih baik. Keseragaman suhu pada setiap permukaan wafer adalah antara ±0.1°C, meaning setiap permukaan mendapat suhu yang sama. Kompatibiliti dengan bilik bersih juga sangat penting; komponen-komponen yang digunakan direka untuk digunakan dalam persekitaran kelas 1–100, dengan bahan-bahan dan sistem penyegelan yang efektif untuk mengelakkan pembentukan zarah-zarah kecil. Ketepatan proses pemanasan dapat dicapai melalui kawalan berkelompok dan prestasi lampu yang stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan variasi intensiti cahaya kurang dari 5%.

Pengering on The Warm IR Heater Shop

Lampu pengering wafer DNS (Screen)