Lapisan konformal untuk wafer IR

Sat, 27 Jun 2026 01:06:14 +0800

Pada garis 300mm, perubahan suhu sebanyak 0.3°C pada permukaan wafer boleh menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal wafer tersebut. Sebuah gangguan yang tidak dirancang saja sudah cukup untuk merosakkan hasil pengeluaran dalam masa yang singkat. Lapisan pelindung untuk wafer IR bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan; ia merupakan alat penting yang membantu memastikan proses litografi dan pemprosesan fotoresist berjalan dengan baik, dari satu giliran ke giliran yang lain.

Apa yang kami lakukan untuk mencapai tujuan ini:
Kami menyesuaikan lapisan pelindung tersebut agar dapat bertindak balas terhadap sinar inframerah serta memastikan suhu tetap stabil, pada tahap ±0.1°C sepanjang permukaan wafer semasa proses pembakaran. Lapisan ini sesuai digunakan di bilik bersih dengan tahap kebersihan dari Kelas 1 hingga Kelas 100. Penghasilan zarah-zarah kecil juga dikurangkan sehingga tidak menjejaskan kualiti produk. Lapisan ini mampu bertahan walaupun melalui beberapa kitaran pemanasan, tanpa retakan atau pelepasan gas. Platform ini direka untuk beroperasi 24/7, tanpa sebarang gangguan yang tidak dirancang, dan jangka hayatnya jauh lebih lama daripada komponen termal biasa.

Lapisan on The Warm IR Heater Shop

Lapisan konformal untuk wafer IR