IR on The Warm IR Heater Shop

Hujung kaca seramik untuk pemancar IR

Thu, 16 Jul 2026 01:23:58 +0800

Jika anda mengendalikan bilik bersih kelas 100, anda pasti sudah tahu betapa pentingnya kebersihan di sana. Sebuah zarah debu yang kecil sekalipun boleh menyebabkan masalah besar.

Masalahnya ialah kebanyakan lampu IR biasa sebenarnya merupakan sumber kontaminasi. Lampu-lampu ini menggunakan bahan perekat dan resin yang murah, serta logam berkualiti rendah pada bahagian hujungnya. Bahan-bahan ini akan mula terurai atau melepaskan gas apabila lampu tersebut menjadi panas. Anda mungkin tidak dapat melihatnya, tetapi produk anda akan terjejas akibatnya.

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Mon, 13 Jul 2026 16:35:04 +0800

Cara mengendalikan pemanasan menggunakan sinar inframerah tanpa merosakkan bilik bersih anda

Ketika bekerja dalam persekitaran Kelas 100, haba merupakan masalah yang perlu dihadapi dengan teliti. Bukan sahaja suhu perlu dikawal dengan baik, tetapi udara di dalam bilik juga perlu kekal bersih sepenuhnya.

Masalahnya ialah lampu inframerah biasanya mempunyai kotoran pada permukaannya. Ia akan mengeluarkan zarah-zarah halus yang tidak dapat dilihat dari permukaan reflektor tersebut. Jika zarah-zarah ini jatuh pada wafer atau komponen optikal, ia akan menyebabkan masalah besar.

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Thu, 09 Jul 2026 15:08:48 +0800

Pendahuluan
Bayangkanlah sebuah lini pemrosesan wafer di mana udara dipenuhi dengan bahan kimia pembersih yang mudah terbakar. Ini merupakan lingkungan yang membuat elemen pemanas biasa tidak dapat berfungsi dengan baik.

Itulah sebabnya kami menciptakan lampu pemanas inframerah khusus untuk situasi seperti ini. Kami membungkus sumber panas tersebut dalam sistem pengemasan khusus, sehingga panas dapat disalurkan tepat ke tempat yang diperlukan, sementara percikan api dapat dijauhkan dari udara sekitar. Dengan cara ini, kita dapat memperoleh kontrol suhu yang tepat untuk proses pembuatan semikonduktor, tanpa risiko kebakaran.

Lapisan konformal untuk wafer IR

Sat, 27 Jun 2026 01:06:14 +0800

Pada garis 300mm, perubahan suhu sebanyak 0.3°C pada permukaan wafer boleh menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal wafer tersebut. Sebuah gangguan yang tidak dirancang saja sudah cukup untuk merosakkan hasil pengeluaran dalam masa yang singkat. Lapisan pelindung untuk wafer IR bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan; ia merupakan alat penting yang membantu memastikan proses litografi dan pemprosesan fotoresist berjalan dengan baik, dari satu giliran ke giliran yang lain.

Apa yang kami lakukan untuk mencapai tujuan ini:
Kami menyesuaikan lapisan pelindung tersebut agar dapat bertindak balas terhadap sinar inframerah serta memastikan suhu tetap stabil, pada tahap ±0.1°C sepanjang permukaan wafer semasa proses pembakaran. Lapisan ini sesuai digunakan di bilik bersih dengan tahap kebersihan dari Kelas 1 hingga Kelas 100. Penghasilan zarah-zarah kecil juga dikurangkan sehingga tidak menjejaskan kualiti produk. Lapisan ini mampu bertahan walaupun melalui beberapa kitaran pemanasan, tanpa retakan atau pelepasan gas. Platform ini direka untuk beroperasi 24/7, tanpa sebarang gangguan yang tidak dirancang, dan jangka hayatnya jauh lebih lama daripada komponen termal biasa.