Dalam proses litografi, perubahan suhu sebanyak 0.3°C semasa pengeringan wafer atau proses pemanasan photoresist boleh menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal wafer, dan perubahan ini berlaku dalam skala nanometer. Perubahan suhu ini akan menyebabkan penurunan kualiti hasil pengeluaran. Kami telah mencipta pemanas inframerah khusus untuk mengatasi masalah ini. Dengan cara ini, kawalan suhu dapat dilakukan dengan lebih tepat, dan masa operasi mesin tidak akan terjejas akibat siklus pemanasan yang berulang-ulang.
Apa yang penting dari segi teknikal:
Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang mempunyai respons yang cepat serta kawalan spektrum yang tepat. Dengan cara ini, tenaga dapat disalurkan secara efektif ke wafer dan photoresist, tanpa berlakunya pelbagai masalah. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C, dan tahap pengulangan hasil pengeluaran juga sangat baik. Sistem ini sesuai digunakan dalam persekitaran kelas 1–100, kerana bahan-bahan yang digunakan tidak menghasilkan gas berbahaya, sambungan antara komponen juga rapat, dan permukaannya bebas daripada zarah-zarah yang boleh merosakkan wafer. Modul pemanas ini mudah dipasang pada platform pengeluaran standard, dengan antaramuka mekanikal yang sempurna dan sambungan elektrik yang mudah. Ia mampu beroperasi stabil selama ribuan jam—lebih dari 5,000 jam, dengan penurunan output kurang dari 5%.
Mengapa ia berkesan dalam praktiknya:
Dari segi pengeringan, penggunaan inframerah memastikan proses pengeringan berlaku dengan seragam dan cepat. Ini dapat mengelakkan kemunculan kesan air atau struktur mikro pada wafer sebelum proses litografi dilakukan. Untuk proses photoresist pula, sistem yang sama digunakan untuk proses pemanasan yang dikawal dengan teliti, sehingga keseragaman ketebalan lapisan photoresist dapat dipertahankan. Langkah-langkah pemanasan yang lain juga dilakukan dengan suhu yang tetap, sehingga adhesi antara lapisan-lapisan tersebut dapat dicapai dengan baik, tanpa memerlukan proses pembetulan semula.
Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana pemanas hanya beroperasi ketika proses sedang berlangsung. Inersia termal yang rendah pula membantu mengurangkan pembaziran tenaga. Dengan demikian, jumlah wafer yang rosak berkurangan, dan masa yang diperlukan untuk proses pengeluaran juga berkurangan.
Apa yang perlu anda ketahui:
Proses pemasangan bergantung pada penyesuaian optik dan jarak antara komponen. Jika penyesuaian ini salah, akan timbul kawasan panas pada permukaan wafer. Beberapa jenis polimer dan lapisan anti-reflektif menyerap cahaya inframerah dengan kuat, jadi ujian awal perlu dilakukan menggunakan sensor yang telah dikalibrasi untuk memastikan ketepatan suhu. Setelah profil suhu ditentukan, hanya perlu dilakukan pemeriksaan kalibrasi secara berkala sahaja.