Lampada per essiccatore a wafer DNS (Screen)

Wed, 24 Jun 2026 00:42:53 +0800

Nella linea di litografia, il processo di essiccazione del fotorest non viene considerato semplicemente come un’operazione legata al calore. Si tratta, in realtà, di un controllo delle dimensioni dei componenti, in modo preciso e preciso. Una variazione di temperatura di 1°C durante l’essiccazione può influenzare le dimensioni critiche dei componenti; inoltre, un profilo termico non uniforme porta inevitabilmente a problemi legati agli angoli dei componenti stessi e a una riduzione della resa produttiva. La lampada utilizzata per l’essiccazione dei wafer è stata progettata tenendo conto di queste realtà: il controllo termico è ottimizzato per soddisfare i requisiti dei processi semiconduttori.

(Schermo) on The Warm IR Heater Shop

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