Riscaldatore a temperatura ad alta precisione

Thu, 02 Jul 2026 02:40:47 +0800

Nel reparto di litografia, si impara rapidamente che una variazione di temperatura di 1°C durante la fase di essiccazione del fotorest non comporta semplicemente un “spostamento” nel processo di produzione: essa infatti provoca delle variazioni nelle dimensioni dei caratteri stampati, il che può rendere tutto il prodotto inutile. Inoltre, se l’essiccazione dei wafer lascia ancora una sottile pellicola dovuta alla tensione superficiale, si creano delle particelle che ostacolano il processo di produzione. Il controllo termico non è quindi una funzione secondaria: è essenziale per il corretto funzionamento del processo.

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Riscaldatore a temperatura ad alta precisione