Riscaldatore per essiccazione dei wafer dei sensori MEMS

Tue, 21 Jul 2026 02:03:37 +0800

Mantenere tutto al sicuro durante il processo di essiccazione delle wafer MEMS
Se siamo onesti: posizionare una lampada a infrarossi ad alta intensità accanto a solventi infiammabili è davvero un modo per causare disastri. Se si vuole essiccare le wafer dei sensori MEMS dopo una pulizia chimica, è necessario utilizzare calore… molto calore. Ma sicuramente non si vuole che si verifichi un incendio nella sala di pulizia.
Ecco perché non ci limitiamo semplicemente a costruire lampade normali. Le realizziamo con un tipo specifico di struttura protettiva, in modo da tenere lontani quei vapori volatili dalle parti elettriche della lampada.

Riscaldatore a infrarossi per essiccazione delle wafer

Thu, 18 Jun 2026 00:47:42 +0800

Nel processo di litografia, una variazione di temperatura di 0,3°C durante il riscaldamento dei wafer o durante la cottura del fotoresist può causare variazioni nelle dimensioni critiche dei componenti, in termini di nanometri. Queste variazioni influiscono negativamente sull’efficienza produttiva. Abbiamo progettato dei termosifoni a infrarossi per eliminare questa variabilità. In questo modo si ottiene un controllo termico preciso nei punti in cui il processo è particolarmente sensibile, e il tempo di funzionamento dell’apparecchiatura non dipende dai cicli di riscaldamento.

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Riscaldatore per essiccazione dei wafer dei sensori MEMS

Riscaldatore a infrarossi per essiccazione delle wafer