Lampu pengering wafer DNS (Screen)

Wed, 24 Jun 2026 00:42:53 +0800

Di jalur litografi, proses pemanasan fotoresist tidak dianggap sekadar “pemanasan biasa”. Ini merupakan proses pengendalian dimensi yang sangat penting. Perubahan suhu sebesar 1°C selama proses pemanasan dapat mempengaruhi dimensi-dimensi kritis dari bahan tersebut. Pola suhu yang tidak seragam akan menyebabkan masalah pada tepi permukaan bahan dan penurunan tingkat keberhasilan proses produksi. Lampu pengering wafer DNS dirancang dengan memperhatikan hal ini—kontrol suhu yang efektif agar sesuai dengan standar proses semikonduktor.

Yang penting secara teknis
Lampu ini menggunakan sinar inframerah berfrekuensi rendah yang disesuaikan dengan respons termal fotoresist. Dengan demikian, proses pemanasan berlangsung lebih cepat dan stabil. Tingkat keseragaman suhu di setiap bagian wafer tetap dalam kisaran ±0,1°C, sehingga setiap bagian wafer mendapatkan kondisi termal yang sama. Kompatibilitas dengan ruang bersih bukanlah hal yang tambahan; komponen-komponen lampu dirancang untuk digunakan di lingkungan kelas 1–100, dengan bahan-bahan dan seal yang mampu menghindari terbentuknya partikel-partikel kecil. Repeatabilitas proses ditentukan oleh kontrol sirkuit tertutup dan stabilitas keluaran lampu selama lebih dari 5.000 jam, dengan penyimpangan intensitas cahaya kurang dari 5%.

(Layar) on The Warm IR Heater Shop

Lampu pengering wafer DNS (Screen)