IR on The Warm IR Heater Shop

Ujung keramik untuk pemancar IR

Thu, 16 Jul 2026 01:23:58 +0800

Jika Anda mengelola ruang bersih kelas 100, Anda pasti sudah tahu betapa pentingnya kebersihan di sana: satu butir debu sekecil apa pun pun bisa menjadi bencana.

Masalahnya adalah, sebagian besar lampu IR standar sebenarnya merupakan sumber kontaminasi. Lampu-lampu tersebut menggunakan bahan perekat murah, resin, dan logam berkualitas rendah pada bagian ujungnya. Bahan-bahan ini akan mulai rusak atau melepaskan zat beracun begitu lampu tersebut panas. Anda mungkin tidak melihat hal ini terjadi, tetapi produk Anda yang akan terkena dampaknya.

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Mon, 13 Jul 2026 16:35:02 +0800

Bagaimana menghadapi penggunaan pemanas IR tanpa merusak lingkungan kerja yang bersih

Ketika bekerja di lingkungan kelas 100, panas merupakan masalah yang perlu diperhatikan dengan serius. Bukan hanya soal menyetel suhu yang tepat, tetapi juga memastikan bahwa udara tetap bersih.

Masalahnya adalah lampu IR standar seringkali “kotor”. Lampu tersebut mengeluarkan gas atau serpihan kecil yang tak terlihat dari reflektor-nya. Jika salah satu partikel tersebut jatuh ke permukaan wafer atau komponen optik, maka hal tersebut akan menjadi bencana.

Sensor IR yang presisi untuk wafer

Thu, 09 Jul 2026 15:08:48 +0800

Pendahuluan
Bayangkanlah sebuah jalur pemrosesan wafer di mana udaranya dipenuhi oleh bahan kimia pembersih yang mudah terbakar. Lingkungan seperti ini membuat elemen pemanas biasa tidak dapat berfungsi dengan baik.

Kami merancang lampu pemanas inframerah khusus untuk mengatasi situasi yang sulit ini. Kami membungkus sumber panas tersebut dalam sistem pengemasan khusus, sehingga panas tetap berada di tempat yang diperlukan, dan percikan api tidak sampai ke udara sekitar. Dengan cara ini, kami memberikan kontrol suhu yang tepat untuk proses fabrikasi semikonduktor, tanpa risiko kebakaran.

Lapisan konformal untuk wafer IR

Sat, 27 Jun 2026 01:06:14 +0800

Pada garis produksi berukuran 300 mm, perubahan suhu sebesar 0,3°C pada permukaan wafer dapat menyebabkan perubahan pada dimensi-dimensi kritisnya. Satu kali henti produksi yang tidak terduga saja sudah cukup untuk menghabiskan seluruh kapasitas pendinginan yang tersedia dalam sekejap. Lapisan pelindung untuk wafer yang tahan terhadap radiasi inframerah bukanlah hal yang sekadar “bagus untuk dimiliki”. Lapisan ini merupakan “penyangga termal” yang memastikan proses litografi dan pengolahan fotoresist tetap berjalan sesuai standar, dari satu siklus ke siklus berikutnya.