Pada proses litografi, perubahan suhu sebesar 0,3°C selama proses pengeringan wafer atau proses pemanasan photoresist dapat menyebabkan perubahan dimensi kritis pada wafer hingga beberapa nanometer. Perubahan suhu ini berdampak negatif terhadap tingkat produksi. Kami merancang pemanas inframerah khusus untuk mengatasi masalah tersebut. Dengan demikian, kontrol suhu menjadi lebih akurat, sehingga proses produksi tetap stabil tanpa bergantung pada siklus kerja oven.
Yang penting dari segi teknis: Kami menggunakan emitter inframerah berfrekuensi rendah yang memiliki respons cepat dan kontrol spektral yang tepat. Dengan demikian, energi panas dapat disalurkan secara efektif ke wafer dan photoresist, tanpa terjadi kelebihan panas. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer tetap berada dalam kisaran ±0,1°C, dan tingkat repetibilitas antar batch juga sangat baik. Sistem ini juga cocok digunakan di lingkungan cleanroom, karena bahan-bahannya memiliki emisi gas yang rendah, sambungan-sambungannya tertutup rapat, sehingga pembentukan partikel berkurang hingga mendekati nol. Module pemanas ini dapat digunakan pada platform proses standar, dengan antarmuka mekanis yang mudah digunakan dan koneksi listrik yang sederhana. Output pemanas tetap stabil selama ribuan jam—bahkan lebih dari 5.000 jam, dengan penurunan output kurang dari 5%.
Mengapa hal ini efektif dalam praktiknya: Dalam proses pengeringan, inframerah membantu proses dehidrasi yang seragam dan cepat. Hal ini mencegah munculnya noda air dan struktur mikro pada wafer sebelum proses litografi dilakukan. Untuk proses photoresist, sistem yang sama digunakan untuk memanaskan photoresist dengan kontrol suhu yang ketat, sehingga keseragaman lebar garis pada wafer meningkat. Proses pemanasan dan pengerasan photoresist dilakukan sesuai dengan profil suhu yang telah ditentukan, sehingga adhesi dan integritas lapisan photoresist tetap terjaga, tanpa perlu dilakukan proses perbaikan.
Penggunaan energi pun berkurang, karena pemanas hanya aktif saat proses berlangsung. Inersia termal yang rendah juga mengurangi pemborosan energi. Dengan demikian, jumlah wafer yang rusak berkurang, sehingga waktu proses produksi menjadi lebih efisien.
Apa yang perlu Anda ketahui: Proses pemasangan hanya membutuhkan penyesuaian optik dan jarak antara komponen-komponen. Jika hal ini tidak dilakukan dengan benar, maka akan muncul titik-titik panas di permukaan wafer. Beberapa jenis polimer dan lapisan anti-reflektif menyerap cahaya inframerah dengan kuat, sehingga pada tahap uji coba pertama, diperlukan pengukuran suhu di permukaan wafer menggunakan sensor yang telah dikalibrasi, untuk memastikan akurasi pengaturan suhu. Setelah profil suhu ditentukan, hanya perlu dilakukan kalibrasi rutin saja, tanpa perlu penyetelan ulang setiap hari.