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		<title>(Ecran) on The Warm IR Heater Shop</title>
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		<description>Recent content in (Ecran) on The Warm IR Heater Shop</description>
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				<title>Lampe sèche de wafer DNS (écran)</title>
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				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 00:42:53 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-shop.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Lampe sèche de wafer DNS (écran)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur la ligne de lithographie, nous ne considérons pas le séchage du photo-résist comme une simple opération de chauffage. Il s’agit plutôt d’un contrôle dimensionnel, très précis. Une variation de 1 °C pendant le séchage peut affecter les dimensions critiques des composants, et un profil non uniforme entraîne des problèmes liés aux bords des composants, ainsi qu’une perte de rendement. La lampe utilisée pour sécher les wafers est conçue en tenant compte de cette réalité : son système de contrôle thermique est optimisé pour répondre aux exigences des procédés de semi-conducteurs.&lt;/p&gt;</description>
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