Lámpara secadora de obleas DNS (Screen)

Wed, 24 Jun 2026 00:42:53 +0800

En la línea de litografía, no consideramos el proceso de secado del fotorresistencia como algo simplemente relacionado con el calor. Se trata, en realidad, de un control dimensional preciso. Una variación de 1°C durante el proceso de secado puede afectar las dimensiones críticas de los componentes fabricados. Además, un perfil térmico no uniforme puede causar problemas en los bordes de los componentes y reducir la eficiencia del proceso. La lámpara utilizada para secar las obleas está diseñada teniendo en cuenta esta realidad: su sistema de control térmico está pensado para cumplir con los requisitos de los procesos de semiconductores.

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Lámpara secadora de obleas DNS (Screen)