DNS (Screen) Wafer Trocknungsleuchte

Wed, 24 Jun 2026 00:42:53 +0800

In der Lithografie-Anlage betrachten wir das Trocknen des Fotoresists nicht einfach als „einfaches Erwärmen“. Es handelt sich dabei vielmehr um eine Kontrolle der Dimensionen – ganz einfach ausgedrückt. Eine Abweichung von 1 °C während des Trocknungsprozesses kann dazu führen, dass die kritischen Abmessungen beeinflusst werden. Ein ungleichmäßiges Temperaturprofil wiederum führt zu Problemen an den Rändern der Wafer sowie zu einem Rückgang der Produktivität. Die Lampe für den Trocknungsvorgang wurde unter Berücksichtigung dieser Realitäten entwickelt – sie bietet eine präzise Temperaturregulierung, die den Anforderungen der Halbleiterfertigung entspricht.

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DNS (Screen) Wafer Trocknungsleuchte