リソグラフィー工程では、フォトレジストのソフトベイク時に1℃の温度変動が生じると、単に工程がずれるだけでなく、回路線幅にも影響を与え、最悪の場合は全ての製品が不良になってしまいます。また、ウエハーの乾燥処理時に表面張力による薄い膜が残っていると、粒子が付着してしまい、歩留まりが低下します。したがって、温度制御は単なる補助的な機能ではなく、工程自体の重要な要素です。
技術的に重要な点
当社の短波赤外線ヒーターは、チャック全体でウエハーの温度を±0.1℃以内に保ち、設定値の再現性も±0.2℃以内です。迅速な温度上昇によりサイクルタイムが短縮され、ドアが開閉しても温度が安定します。また、石英を使用しない発光素子の設計により、粒子の発生が防がれ、クリーンルームのクラス1～100の基準を満たします。MTBFは10,000時間以上であり、24時間365日、計画外の停止なく運用できます。
なぜ工場で効果的か
ウエハーの乾燥処理では、NIR光が微細な構造にも浸透し、表面に膜を形成することなく溶剤を除去します。そのため、非接触型の乾燥が可能で、粒子の付着も抑えられます。フォトレジストのプリベイクやハードベイクにおいても、この均一性と再現性により、寸法の精度が向上し、不良率が低下します。また、エネルギー消費も削減されます。迅速な温度応答により、無駄な稼働が減少し、1バッチあたりのコストも低減されます。
考慮すべき点
標準的なレール上での設置は簡単ですが、光学系は直線的な視線が必要です。最初の設置時には、反射器と発光素子の位置合わせを確認する必要があり、ヒーターを交換する際にもツール間の校正が必要です。工程を正常に動作させるまでには、少し時間がかかります。一度校正が済めば、温度の変動は最小限に抑えられます。したがって、初期の位置合わせも統合作業の一環として考慮する必要があります。