Parti di ricambio per la lavorazione dei wafer online
Superare le barriere di costo nei componenti per semiconduttori
Parliamo di una domanda che tutti si pongono sul posto di lavoro: è davvero possibile...
Strato conformale per IR dei wafer
Su una linea di produzione di 300 mm, un cambiamento di temperatura di 0,3°C sul wafer può influenzare negativamente le dimensioni critiche del...
Lampada per essiccatore a wafer DNS (Screen)
Nella linea di litografia, il processo di essiccazione del fotorest non viene considerato semplicemente come un’operazione legata al calore. Si...
Soccorso per lampada a infrarossi per strumento per wafer
Nelle linee di produzione, si sa quanto velocemente le cose possano sfuggire al controllo. Un leggero cambiamento nella temperatura di cottura può...
Riscaldatore a infrarossi per essiccazione delle wafer
Nel processo di litografia, una variazione di temperatura di 0,3°C durante il riscaldamento dei wafer o durante la cottura del fotoresist può causare...